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用于高产半导体制造的 AI 晶圆检测

检测微裂纹、边缘缺陷、污染、图案偏移和对齐问题可能会产生或破坏芯片产量和可靠性。传统的检测方法难以应对复杂的多层背景和不可预测的缺陷变化,这些变化定义了现代晶圆加工。康耐视 AI 晶圆检测技术可降低这种复杂性,提供自动化的全晶圆缺陷筛查,使您的晶圆厂保持高效运行。

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半导体晶圆对检测系统提出了复杂的要求

晶圆检测是芯片制造质量控制的基石。每层经过材料沉积、光刻、蚀刻和离子注入后,必须仔细检查所有材料是否有划痕、旋压缺陷、暴露问题、颗粒污染、热点和晶圆边线缺陷。

任何遗漏的缺陷都可能浪费宝贵的资源,因为有缺陷的晶圆经过昂贵的制造步骤,或者更糟的是,被用于产品中并导致过早的现场故障。随着半导体制造成本达到天文水平,在层沉积后立即发现缺陷对于保持盈利能力和产品可靠性至关重要。

这些检查还必须与工厂自动化系统无缝集成,同时满足严格的洁净室标准,确保大批量生产线的效率、准确性和合规性。

晶圆加工中的检测挑战

半导体晶圆检测带来了传统机器视觉系统难以掌握的挑战。考虑技术复杂性:

  • 多层晶圆背景:掩盖关键缺陷的视觉复杂性。
  • 不可预测的颜色变化: 需要灵活检测系统的颜色和材料差异。
  • 广泛的缺陷类型: 缺陷可以出现在任何地方,并以许多不同的方式出现。
  • 缩小几何形状和更高的层数: 表面缺陷检测变得指数级困难。

传统的基于规则的视觉系统缺乏适应各种可能异常的灵活性,通常缺少复杂背景的细微但关键的缺陷。手动采样有其自身的局限性:它会带来污染风险,减缓生产流程,并很容易错过严重的缺陷。半导体晶圆厂需要全晶圆扫描和智能、AI 检测,以区分可接受的过程变化和真正的缺陷,从而确保高产量、质量和产量。

​​AI 解决方案正在彻底改变表面缺陷检测的可靠性

康耐视晶圆检测系统使用 AI 缺陷检测来改变半导体生产中的质量控制。这项技术识别整个晶圆的异常,同时忽略复杂的底层,使传统视觉系统混淆。

自动筛选覆盖的晶圆远多于手动方法,提高了缺陷采集率,并降低了过度处理造成的污染风险。对于复杂情况,康耐视系统可以使用双层配置,在保持生产速度的同时,标记模糊区域进行离线手动审查。

康耐视的晶圆检测技术与现有的晶圆厂自动化无缝集成,在前端和后端晶圆加工操作中保持洁净室兼容性。我们提供全球行业专家网络,支持您的系统,让您顺利运行,而我们综合在线资源提供教育或故障排除,为您提供所需的帮助。

半导体解决方案指南 | 英语

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通过精确的对准、缺陷检测和端到端可追溯性,促进半导体制造。   

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